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真空鍍膜電源
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鍍膜前的準備是怎么樣的呢?

2020-05-07 00:00:00

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗,這種清洗要求很高,達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強清洗效果,當鏡片清洗完后,放進真空艙內,在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。最后的清洗是在真空艙內,在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。最后的清洗是在真空艙內鍍前進行的,放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表面(例如用氬離子),完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什么在現在會應用那么多呢,有哪些明顯的效果?

真空鍍膜電源

概念的區別:

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。


2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。


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